💿벌써 준비는 끝났지!
인텔의 기술 개발 책임자인 앤 켈러허는 26일(현지시간) SPIE 리소그래피 콘퍼런스에 참여해 "반도체장비회사 ASML의 새로운 하이 NA EUV 리소그래피 시스템(High NA EUV lithography system)이 '첫 번째 빛'에 도달했다"고 언급했습니다.
'첫 번째 빛'은 이 장비가 빛에 민감한 화학 물질로 처리된 실리콘 웨이퍼를 테스트하는 데 사용되어 회로 패턴을 받을 준비가 되었다는 것을 의미합니다. ASML은 켈러허의 발언이 정확하다고 확인해 줬고요.
하이 NA EUV 리소그래피가 뭔지부터 알아야겠죠?
우선 극자외선(EUV) 리소그래피는 13.5nm 파장의 극자외선을 사용해 실리콘 웨이퍼 위에 미세한 회로 패턴을 전송하는 장비입니다. 이른바 첨단 반도체를 제작하는 데에 쓰입니다. TSMC와 삼성전자, SK하이닉스 등이 이 장비를 쓰고 있죠.
하이 NA는 '더 높은 수치 개구수(High Numerical Aperture)'를 뜻하는데요. 더 큰 개구수를 사용해 빛을 더 집중시키게 됩니다. 즉, 기존 EUV보다 더 미세한 빛을 쏘는 장비를 의미합니다. 현재 세대의 EUV보다 훨씬 더 미세한 회로 패턴을 생성할 수 있다는 거죠.
🎙️그런데 왜 인텔이 언급을?
그렇다면 왜 인텔이 ASML 장비에 대해 이야기했을까요?
인텔이 바로 이 장비를 가장 먼저 도입하게 될 기업이기 때문입니다. 현존하는 첫 하이 NA EUV 리소그래피 시스템은 ASML의 연구소에 있습니다. 그리고 두 번째 장비는 미국 오리건 주에 위치한 인텔의 공장에서 조립되고 있습니다.
인텔은 이 장비를 적극적으로 활용해 TSMC와 삼성전자가 장악한 첨단 반도체 제조 시장에 침투하려 하고 있죠. 물론 삼성전자와 TSMC 역시 이 장비를 사들일 계획입니다. 향후 5년 내 이 장비가 현장에 투입될 것으로 업계는 내다보고 있습니다.
📉주가는 살짝 내렸어
나스닥에 상장된 ASML의 주가는 28일(현지시간) 0.20% 떨어진 939.50달러로 장을 마감했습니다.
이 기업의 주가는 올해 들어서 무려 31.05% 상승하는 강력한 퍼포먼스를 보이고 있습니다. 최근 5년 상승 폭은 약 400%에 이릅니다. AI 열풍이 부는 가운데 첨단 반도체를 만들 때 사용되는 필수적인 장비를 독점하고 있기 때문으로 풀이됩니다.
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